Специалисты институтов по заказу Минпромторга создали первые отечественные кластерные установки плазмохимического травления и осаждения, предназначенные для производства электронных компонентов с проектными нормами до 65 нм.
Установки способны обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции, такие как нанесение тонких изолирующих пленок (оксида и нитрида кремния), плазмохимическое травление для создания наноструктур.